Samsung e ASML ampliam cooperação em litografia High NA EUV
Empresas aprofundam esforços conjuntos no desenvolvimento de processos avançados para a era da inteligência artificial.
Capa editorial: Samsung e ASML ampliam cooperação em litografia High NA EUV
A Samsung Electronics e a fabricante holandesa ASML expandiram sua cooperação industrial para acelerar o uso da litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica (High NA EUV). O acordo foca em vencer desafios técnicos na fabricação de chips de nós avançados, viabilizando ganhos de eficiência energética e densidade de transistores requeridos por hardwares de processamento de dados massivos.
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