Samsung e ASML ampliam parceria em litografia High NA EUV para produção de chips

A Samsung Electronics e a fabricante holandesa ASML expandiram seu acordo de cooperação estratégica focado na tecnologia de litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica (High NA EUV). O aprofundamento da parceria busca responder à demanda crescente por infraestrutura de chips para inteligência artificial, acelerando a implementação de novos processos de fabricação em escala nanométrica. A colaboração reforça anos de investimentos conjuntos entre as duas empresas no aprimoramento de maquinário de ponta, permitindo que a Samsung introduza padrões de circuitos ainda mais densos e velozes em suas próximas linhas de produção de memórias e processadores avançados.