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Samsung e ASML ampliam parceria estratégica para litografia High NA EUV

Colaboração entre as companhias mira aprimoramentos em processos de manufatura de ponta na era da IA.

Capa editorial: Samsung e ASML ampliam parceria estratégica para litografia High NA EUV
Capa editorial: Samsung e ASML ampliam parceria estratégica para litografia High NA EUV

A Samsung Electronics e a fabricante de equipamentos litográficos ASML anunciaram o aprofundamento de sua cooperação tecnológica de longa data. O foco central da expansão é o desenvolvimento e a implementação acelerada de sistemas High NA EUV em linhas fabris, essenciais para a fabricação dos componentes semicondutores mais densos e velozes exigidos pela computação moderna.

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